有的人又把膜厚儀稱(chēng)為膜厚測量?jì)x，主要分為兩種類(lèi)型，一種類(lèi)型是手持式與臺式兩種，手持式的膜厚測量?jì)x又有好幾種類(lèi)型，比如說(shuō)電渦流鍍層測厚儀，熒光X射線(xiàn)鍍層膜厚測量?jì)x。手持式的測量?jì)x采用的測量原理是利用探頭經(jīng)過(guò)非鐵磁覆蓋二流入鐵磁基體磁通的大小。對于，膜厚儀很多人對它測量原理是非常感興趣的，我們一起來(lái)了解一下它的測量原理。
我們已經(jīng)學(xué)習了手持膜厚儀的測量原理，接著(zhù)我們再來(lái)學(xué)習一下臺式測厚儀的測量原理。一些技術(shù)人員告訴我們，臺式的熒光X射線(xiàn)膜厚儀，是一種通過(guò)一次X射線(xiàn)穿透金屬元素樣品的而產(chǎn)生的低能量的光子，這種低能量的光子又被稱(chēng)為二次熒光?？梢酝ㄟ^(guò)高級計算機對這種能量進(jìn)行計算，這種能量計算出來(lái)的值可以對厚度進(jìn)行一定的衡量。
在膜厚儀中，比較流行的測量原理就是電渦流測量原理，我們一起來(lái)對電渦流測量原理進(jìn)行比較詳盡的學(xué)習，高頻的交流信號一般會(huì )在側頭線(xiàn)圈中產(chǎn)生一定的電磁場(chǎng)，當測試的探頭靠近導體的時(shí)候，就會(huì )在它的附加產(chǎn)生渦流。如果測試探頭離導體的基體越近，它的渦流就會(huì )越大，反射阻抗肯定也會(huì )更大。事實(shí)上，這是一個(gè)反饋作用的過(guò)程，這個(gè)過(guò)程中表征了測試探頭與導電基體之間距離的大小，換句話(huà)說(shuō)，這就是導體導電基體上非導電覆層厚度的大小。
采用電渦流測試的原理，原則上需要對導體上的非導電體覆蓋層均可以進(jìn)行測量，技術(shù)人員告訴我們，覆層材料是有一定的導電性的，通過(guò)校準也是可以同時(shí)進(jìn)行測量的，不過(guò)在這其中，有一個(gè)比較明顯的要求就是兩個(gè)的導電率最好是相差3到5倍左右。
這就是跟朋友們介紹分享的膜厚儀一些測量基本原理，本文主要介紹了手持式膜厚測試儀的測量原理、臺式膜厚測試儀的測量原理，及其在膜厚測試儀比較流行的測量原理，這種測量原理就是電渦流測量原理。在測量原理中，鋼鐵經(jīng)常作為基體的導電體。