Couloscope CMS2 STEP鍍層測厚儀（破壞性）
| 更新時(shí)間： | 2017-05-23 |
| 報 價(jià)： |  |
Couloscope CMS2 STEP鍍層測厚儀（破壞性）作為測量鍍層厚度Z簡(jiǎn)單的方法之一，庫侖法可以用于 各種鍍層組合。 尤其對于多鍍層結構， 當允許破壞性測 量時(shí)，它提供了一個(gè)比 X 射線(xiàn)更經(jīng)濟的替代方法。 很多常見(jiàn)的單、雙鍍層例如鐵鍍鋅或者銅鍍鎳鍍錫都可 以用 CMS2 簡(jiǎn)單快速地測量。這個(gè)方法為任何金屬鍍層 提供了的測量。在厚度范圍 0.05 - 50 μm 內， 很多 材料不需
Couloscope CMS2 STEP鍍層測厚儀（破壞性）的詳細資料：
| 品牌 | Helmut Fischer/德國菲希爾 |
|---|
Couloscope CMS2 STEP鍍層測厚儀（破壞性）
作為測量鍍層厚度zui簡(jiǎn)單的方法之一，庫侖法可以用于 各種鍍層組合。 尤其對于多鍍層結構， 當允許破壞性測 量時(shí)，它提供了一個(gè)比 X 射線(xiàn)更經(jīng)濟的替代方法。 很多常見(jiàn)的單、雙鍍層例如鐵鍍鋅或者銅鍍鎳鍍錫都可 以用 CMS2 簡(jiǎn)單快速地測量。這個(gè)方法為任何金屬鍍層 提供了的測量。在厚度范圍 0.05 - 50 μm 內， 很多 材料不需要預設定；基材組成和幾何形狀對于測量都 是無(wú)關(guān)緊要的。
測量槽------可比作微型電解缸------被用來(lái)剝離鍍層。 測量 面積由裝在測量槽上的墊圈尺寸來(lái)決定。對不同的金屬 采用不同配方的電解液。通過(guò)載入電流開(kāi)始電解過(guò)程。 電解過(guò)程由 COULSCOPE 儀器的電子部分控制， 用一 個(gè)泵攪拌電解液來(lái)使電解區域電解液平穩腐蝕，保證電 解液*利用。 根據測量區域的大小，各種直徑的墊圈 可供選擇。
測量印刷線(xiàn)路板上剩余純錫的厚度 :
zui常見(jiàn)的應用之一就是測量線(xiàn)路板上剩余的純錫，以確 ?？珊感?。多鍍層例如 Cr/ Ni/Cu 在鐵或者塑料（ABS） 基材上，經(jīng)常被用于高品質(zhì)的浴室用品，也可以用這個(gè) 方法進(jìn)行測量
特性：
測量原理 ： 這個(gè)系列儀器根據 DIN EN ISO 2177 標準的庫侖法。 金屬或非金屬基材上的金屬鍍層，通過(guò)在控制電流條件 下電解腐蝕--------實(shí)際上就是電鍍的反過(guò)程。所載入的電 流與要剝離的鍍層厚度是成正比的，假如電流和剝離面 積保持不變，鍍層厚度與電解時(shí)間就是成正比的關(guān)系。 下面的公式適用于通過(guò)庫侖法電解腐蝕確定鍍層厚度： d: A: 電解面積 [cm2] ρ: 電解鍍層材料密度 [g/cm3] |
COULOSCOPE CMS基本配置： 儀器： Couloscope CMS | |||||
| 如果你對Couloscope CMS2 STEP鍍層測厚儀（破壞性）感興趣，想了解更詳細的產(chǎn)品信息，填寫(xiě)下表直接與廠(chǎng)家聯(lián)系： |