菲希爾CMS2 STEP電位差庫侖儀的詳細資料：

菲希爾CMS2 STEP電位差庫侖儀

特性:
    吸引人的設計，大的液晶顯示器和清晰安排的鍵盤(pán)。
    操作簡(jiǎn)單，菜單指引的操作提示。
    電解區域直徑從0.6 mm (24 mils) 至3.2 mm (128 mils)。
    大約100個(gè)預先定義好的應用程式適用于大多數的金屬鍍層，包括測量線(xiàn)材。

 
  測量印刷線(xiàn)路板上剩余純錫的厚度 
下面的公式適用于通過(guò)庫侖法電解腐蝕確定鍍層厚度：  
 
測量槽------可比作微型電解缸------被用來(lái)剝離鍍層。 測量 面積由裝在測量槽上的墊圈尺寸來(lái)決定。對不同的金屬 采用不同配方的電解液。通過(guò)載入電流開(kāi)始電解過(guò)程。 電解過(guò)程由 COULSCOPE 儀器的電子部分控制， 用一 個(gè)泵攪拌電解液來(lái)使電解區域電解液平穩腐蝕，保證電 解液*利用。 根據測量區域的大小，各種直徑的墊圈 可供選擇。 

 
菲希爾CMS2 STEP電位差庫侖儀

校準 校準時(shí)會(huì )產(chǎn)生一個(gè)修正系數 。這是由于測量槽密封墊子的制造公差、鍍層密度的變化、合金成分的變化，需要該修正系數。
 
 作為測量鍍層厚度zui簡(jiǎn)單的方法之一，庫侖法可以用于各種鍍層組合。 尤其對于多鍍層結構， 當允許破壞性測量時(shí)，它提供了一個(gè)比X射線(xiàn)更經(jīng)濟的替代方法。 應用 強大并且用戶(hù)友好的COULOSCOPE CMS2適用于電鍍行業(yè)的生產(chǎn)監控和成品的質(zhì)量檢驗。
 
 很多常見(jiàn)的單、雙鍍層例如鐵鍍鋅或者銅鍍鎳鍍錫都可以用CMS2簡(jiǎn)單快速地測量。這個(gè)方法為任何金屬鍍層提供了的測量。在厚度范圍 0.05 - 50 μm內， 很多材料不需要預設定；基材組成和幾何形狀對于測量都是無(wú)關(guān)緊要的。
 
 zui常見(jiàn)的應用之一就是測量線(xiàn)路板上剩余的純錫，以確?？珊感?。多鍍層例如 Cr/ Ni/Cu在鐵或者塑料（ABS）基材上，經(jīng)常被用于高品質(zhì)的浴室用品，也可以用這個(gè)方法進(jìn)行測量。
 
 測量原理 這個(gè)系列儀器根據DIN EN ISO 2177標準的庫侖法。 金屬或非金屬基材上的金屬鍍層，通過(guò)在控制電流條件下電解腐蝕--------實(shí)際上就是電鍍的反過(guò)程。所載入的電流與要剝離的鍍層厚度是成正比的，假如電流和剝離面積保持不變，鍍層厚度與電解時(shí)間就是成正比的關(guān)系。
 
 測量槽------可比作微型電解缸------被用來(lái)剝離鍍層。 測量面積由裝在測量槽上的墊圈尺寸來(lái)決定。對不同的金屬采用不同配方的電解液。通過(guò)載入電流開(kāi)始電解過(guò)程。 電解過(guò)程由COULSCOPE儀器的電子部分控制， 用一個(gè)泵攪拌電解液來(lái)使電解區域電解液平穩腐蝕，保證電解液*利用。 根據測量區域的大小，各種直徑的墊圈 可供選擇。
 
 STEP Test是在允許腐蝕的情況下用來(lái)同時(shí)測量電位差和多層鎳的鍍層厚度，該方法是這個(gè)應用領(lǐng)域的標準。 應用
 多層鎳鍍層的品質(zhì)控制需要能在電鍍完成后立刻檢查厚度和電位差的儀器。 COULOSCOPE CMS2 STEP 就是為這個(gè)目的而設計的，它操作簡(jiǎn)單，參比電極使用起來(lái)也不復雜，非常適合電鍍工廠(chǎng)苛刻環(huán)境下的這種應用
 
 電鍍鎳層用作電解保護和提高機器表面屬性，如硬度等。 特別是汽車(chē)工業(yè)中，電鍍鎳部件在防腐蝕方面要滿(mǎn)足很高的要求。單一鎳層無(wú)法滿(mǎn)足該要求。因此，目前正在開(kāi)發(fā)非常復雜的鍍層系統，其中包含兩層、三層甚至四層鍍鎳層，還有鉻或銅鍍層。
 
 測量原理 STEP Test 是(Simultaneous Thickness and Electrochemi- cal Potential determination)（同時(shí)測量鍍層厚度和化學(xué)電位差）的簡(jiǎn)寫(xiě)，是已經(jīng)標準化很久的測量方法。它可以同時(shí)測量各鍍層厚度和多層鎳系統中兩層之間的電化學(xué)電位差。 厚度測量時(shí)用庫侖法來(lái)測量，電位差通過(guò)外面鍍一層AgCl的銀參比電極來(lái)測量。電壓曲線(xiàn)可以顯示在屏幕上，鍍層厚度和電位差可以在圖上讀出。 為了獲得可以比較的穩定電位差測量結果，參比電極到工件的距離必須始終保持不變。這個(gè)問(wèn)題通過(guò)特殊的測量槽得到解決。
 
 銀參比電極被設計成一個(gè)圓錐形的環(huán)狀電極，并作為測量槽底部的外殼與測量槽蓋連接。測量槽的設計保證了參比電極與工件之間的距離始終不變。

COULOSCOPE CMS STEP 雙層鎳鍍層測量版本
Couloscope CMS2 STEP 電解測厚儀
4種不同類(lèi)型的測量臺適合于測量各種種類(lèi)的被測物體。

Couloscope CMS2 STEP 庫侖測電位差測厚儀

測量原理 

這個(gè)系列儀器根據 DIN EN ISO 2177 標準的庫侖法。 金屬或非金屬基材上的金屬鍍層，通過(guò)在控制電流條件 下電解腐蝕--------實(shí)際上就是電鍍的反過(guò)程。所載入的電 流與要剝離的鍍層厚度是成正比的，假如電流和剝離面 積保持不變，鍍層厚度與電解時(shí)間就是成正比的關(guān)系。 

作為測量鍍層厚度zui簡(jiǎn)單的方法之一，庫侖法可以用于 各種鍍層組合。 尤其對于多鍍層結構， 當允許破壞性測 量時(shí)，它提供了一個(gè)比 X 射線(xiàn)更經(jīng)濟的替代方法。 

很多常見(jiàn)的單、雙鍍層例如鐵鍍鋅或者銅鍍鎳鍍錫都可 以用 CMS2 簡(jiǎn)單快速地測量。這個(gè)方法為任何金屬鍍層 提供了的測量。在厚度范圍 0.05 - 50 μm 內， 很多 材料不需要預設定；基材組成和幾何形狀對于測量都 是無(wú)關(guān)緊要的。 
 
zui常見(jiàn)的應用之一就是測量線(xiàn)路板上剩余的純錫，以確 ?？珊感?。多鍍層例如 Cr/ Ni/Cu 在鐵或者塑料（ABS） 基材上，經(jīng)常被用于高品質(zhì)的浴室用品，也可以用這個(gè) 方法進(jìn)行測量

COULOSCOPE CMS基本配置：

儀器：            Couloscope CMS
測量臺：          V24、V26、V18 等
電解液：          F1 ～ F22

COULOSCOPE CMS特征：
標準：DIN EN ISO 2177 ； ASTM B504

模擬輸出： 0 ～ -18V
輸入阻抗： ＞ 2 KΩ
工作溫度： 10 ℃ ～ 40 ℃
儀器重量： 6 kg 
電源： AC 220 V ，50-60 Hz；zui大功耗 ≤ 85 VA
尺寸： 350W * 140H * 200D  mm